真空镀铝的原理是通过暴露在空气中的金属表面，当金属表面温度到达一定程度时，金属上的氧分子开始以原子状氧分子的形式腐蚀金属，并形成一层铝氧化物，这是一种自然的现象。由于真空条件有利于气体迁移，所以在真空条件下，金属表面会更快地受到腐蚀，并形成更薄的膜。在真空镀膜过程中，还会添加一些化学成分，比如镀铝剂，促进铝在基材表面形成薄膜，而不是氧键。真空镀膜还可用于镀其他金属，例如钼、铬、锡、锑、钼、铪、铜、铯等等。