请问一下国产光刻机目前研发是保密研发还是透明研发的呀

就是想问，这些尖端光刻机的研发进度是保密的，还是说基本上从专利、人员和公司宣传可以较为准确地摸清研发进度？

才开始了解半导体产业不久，所以问点基础问题

不感兴趣

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民用制造设备，哪有什么保密的，别听那些大忽悠乱说。如果打着保密不公开的旗号不官宣，实际上就是没东西。

我最烦那些天天找各种理由扯什么保密、不公开、低调的人，明显是编造借口。6代机都能公开，光刻机有什么不能公开的?其实没有什么理由，就是没多少货可以公开。

官宣=有
不官宣=没有

你的感觉是对的，你就这样汇报上去吧。

全国产的话这个主要看各种关键部件的研发进度,半国产的话,那要曲线进口子部件了

你问这个干啥

不感兴趣

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干嘛在这里泄露给你方便1450查情报是吧

透明的，但你问就是保密的

保密，散了吧

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